Preview

ВЛИЯНИЕ ИМПУЛЬСНОГО ФОТОННОГО ОТЖИГА НА СТРУКТУРУ И ФАЗОВЫЙ СОСТАВ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ СИСТЕМ НА ОСНОВЕ КРЕМНИЯ И ПЕРЕХОДНЫХ МЕТАЛЛОВ

Полный текст:

Аннотация

Методами просвечивающей электронной микроскопии, электронографии и энергодисперсионного рентгеновского микроанализа проведены исследования элементного состава, закономерностей  структурных и фазовых  превращений,  происходящих в  тонкопленочных  системах Si–Fe–Si и TiN–Ti–Si при импульсном фотонном отжиге в зависимости от плотности энергии облучения. Определены оптимальные параметры импульсного фотонного отжига для формирования на кремнии тонких пленок FeSi2 β-модификации и TiSi2 в модификации C54.

Для цитирования:


Маркевич М.И., Чапланов А.М., Щербакова У.Н. ВЛИЯНИЕ ИМПУЛЬСНОГО ФОТОННОГО ОТЖИГА НА СТРУКТУРУ И ФАЗОВЫЙ СОСТАВ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ СИСТЕМ НА ОСНОВЕ КРЕМНИЯ И ПЕРЕХОДНЫХ МЕТАЛЛОВ. НАУКА и ТЕХНИКА. 2013;(2):63-66.

For citation:


Markevich M.I., Chaplanov A.M., Scherbakova E.N. INFLUENCE OF IMPULSE PHOTON ANNEALING ON STRUCTURE AND PHASE COMPOSITION OF THIN-FILMED SYSTEMS ON BASIS OF SILICON AND TRANSITION METALS. Science & Technique. 2013;(2):63-66. (In Russ.)

Просмотров: 614


Creative Commons License
Контент доступен под лицензией Creative Commons Attribution 4.0 License.


ISSN 2227-1031 (Print)
ISSN 2414-0392 (Online)