IMPULSE PHOTON ANNEALING EFFECT ON STRUCTURE AND PHASE COMPOSITION OF THIN FILM SYSTEMS ON BASIS OF SILICON AND TRANSITION METALS
Abstract
The present paper investigates element composition, regularities of structural and phase transformations in Si–Fe–Si and TiN–Ti–Si thin film systems in the process of impulse photon annealing depending on radiation energy density while applying such methods as transmission electron microscopy, electron diffraction analysis and energy dispersive x-ray microanalysis. Optimum characteristics of impulse photon annealing for formation FeSi2 thin films of β-modification on silicon and TiSi2 films in C54 modification have been determined in the paper.
About the Authors
M. I. Markevich
Belarusian National Technical University
Belarus
Belarus
A. M. Chaplanov
Physical-Engineering Institute of the NAS of Belarus
Belarus
Belarus
E. N. Shcherbakova
Physical-Engineering Institute of the NAS of Belarus
Belarus
Belarus
References
1. Cинтез пленок TiSi2 в процессе вакуумной конденсации и методом импульсной фотонной обработки / В. М. Иевлев [и др.] // Конденсированные среды и межфазные границы. – 2009. – Т. 11, № 3. – С. 216–220.
2. Ion beam synthesized silicides: growth, characterization and devices / K. Homewood [et al.] // Thin Solid Films. – 2001. – Vol. 381, Issue 2. – P. 188–193.
3. Experimental investigation of the band edge anisotropy of the b-FeSi2 semiconductor / M. Marinova [et al.] // Solid State Sciences. – 2008. – Vol. 10. – Р. 1369–1373.
4. Исследование сверхтонких пленок силицида железа, выращенных твердофазной эпитаксией на поверхности Si (001) / В. В. Балашев [и др.] // Физика твердого тела. – 2010. – Т. 52, вып. 2. – С. 370–376.
5. Формирование резистивных свойств двухфазных систем полупроводник – металл на основе FeSi1+x при малых отклонениях от стехиометрии / А. А. Повзнер [и др.] // ЖТФ. – 2001. – Т. 71, вып. 8. – С. 109–111.
6. Пилипенко, В. А. Быстрые термообработки в технологии СБИС / В. А. Пилипенко. – Минск : Издательский центр БГУ, 2004. – 531 с.
7. Электрофизические и механические свойства дисилицида титана, полученного с применением быстрой термообработки / В. А. Пилипенко [и др.] // Вестник БГУ. – 2001. – Сер. 1. – № 2. – С. 43.
8. Борисенко, В. Е. Твердофазные процессы в полу-проводниках при импульсном нагреве / В. Е. Борисенко. – Минск : Наука и техника, 1992. – 247 с.
Review
For citations:
Markevich M.I., Chaplanov A.M., Shcherbakova E.N. IMPULSE PHOTON ANNEALING EFFECT ON STRUCTURE AND PHASE COMPOSITION OF THIN FILM SYSTEMS ON BASIS OF SILICON AND TRANSITION METALS. Science & Technique. 2012;(5):13-16. (In Russ.)
Views:
595
Email this article 