INFLUENCE OF IMPULSE PHOTON ANNEALING ON STRUCTURE AND PHASE COMPOSITION OF THIN-FILMED SYSTEMS ON BASIS OF SILICON AND TRANSITION METALS
Abstract
Methods of transmission electronic microscopy, electron diffraction, energy dispersive X-ray microanalysis have been used for investigations of element composition, regularities in structural and phase transmissions occurring in thin-filmed systems Si–Fe–Si and TiN–Ti–Si while using impulse photon annealing in terms of radiation energy density. Optimum parameters of impulse photon annealing for formation of β-FeSi2 and C54-TiSi2 thin films on silicon have been determined in the paper.
About the Authors
M. I. Markevich
Belarusian National Technical University
Belarus
Belarus
A. M. Chaplanov
Physical-Engineering Institute of the NAS of Belarus
Belarus
Belarus
E. N. Scherbakova
Physical-Engineering Institute of the NAS of Belarus
Belarus
Belarus
References
1. Cинтез пленок TiSi2 в процессе вакуумной конденсации и методом импульсной фотонной обработки / В. М. Иевлев [и др.] // Конденсированные среды и межфазные границы. – 2009. – Т. 11, № 3. – С. 216–220.
2. Ion beam synthesized silicides: growth, characterization and devices / K. Homewood [et al.] // Thin Solid Films. – 2001. – Vol. 381, Issue 2. – P. 188–193.
3. Experimental investigation of the band edge anisotropy of the b-FeSi2 semiconductor / M. Marinova [et al.] // Solid State Sciences. – 2008. – Vol. 10. – Р. 1369–1373.
4. Исследование сверхтонких пленок силицида железа, выращенных твердофазной эпитаксией на поверхности Si (001) / В. В. Балашев [и др.] // Физика твердого тела. – 2010. – Т. 52, вып. 2. – С. 370–376.
5. Формирование резистивных свойств двухфазных систем полупроводник – металл на основе FeSi1+x при малых отклонениях от стехиометрии / А. А. Повзнер [и др.] // ЖТФ. – 2001. – Т. 71, вып. 8. – С. 109–111.
6. Пилипенко, В. А. Быстрые термообработки в технологии СБИС / В. А. Пилипенко. – Минск : Издательский центр БГУ, 2004. – 531 с.
7. Электрофизические и механические свойства дисилицида титана, полученного с применением быстрой термообработки / В. А. Пилипенко [и др.] // Вестник БГУ. – 2001. – Сер. 1. – № 2. – С. 43.
8. Борисенко, В. Е. Твердофазные процессы в полу-проводниках при импульсном нагреве / В. Е. Борисенко. – Минск : Наука и техника, 1992. – 247 с.
Review
For citations:
Markevich M.I., Chaplanov A.M., Scherbakova E.N. INFLUENCE OF IMPULSE PHOTON ANNEALING ON STRUCTURE AND PHASE COMPOSITION OF THIN-FILMED SYSTEMS ON BASIS OF SILICON AND TRANSITION METALS. Science & Technique. 2013;(2):63-66. (In Russ.)
Views:
590
Email this article 