ПРИМЕНЕНИЕ ОБОРУДОВАНИЯ ДЛЯ АВТОМАТИЧЕСКОГО КОНТРОЛЯ ПЛАНАРНЫХ СТРУКТУР В ПРОИЗВОДСТВЕ ОРИГИНАЛОВ ТОПОЛОГИИ ИНТЕГРАЛЬНЫХ СХЕМ НА ФОТОШАБЛОНАХ
https://doi.org/10.21122/2227-1031-2007-0-6-64-70
Аннотация
В соответствии с концепцией бездефектного изготовления оригиналов топологии интегральных схем на фотошаблонах представлены два отечественных комплекта оптико-механического оборудования, предназначенные для реализации технологии 0,35 мкм и 90 нм. Каждый из этих комплектов состоит из:
• многоканального лазерного генератора изображений;
• установки автоматического контроля топологии фотошаблонов;
• установки лазерного устранения дефектов топологии фотошаблонов.
Приводится описание операции автоматического контроля топологии в технологическом процессе изготовления фотошаблонов и краткое описание базовых технологических операций этого процесса.
Анализируются преимущества комплексного подхода к проблеме разработки комплекта оптико-механического оборудования для бездефектного изготовления фотошаблонов.
Об авторе
С. М. АваковБеларусь
Лауреат Государственной премии Республики Беларусь, кандидат технических наук
Список литературы
1. Results from a new die-to-database reticle inspection platform / W. Broadbent [et al.] // Metrology, Inspection and Process Control for Microlithography XXI, Chas N. Archie, Ed., Proc. of SPIE, Vol. 6518: P. 651821, 2007. – P. 1–14.
2. Avakaw, S. High productivity object-oriented defect detection algorithms for the new modular die-to-database reticle inspection platform / S. Avakaw // SPIE. – 2005. – Jun. – V. 5835. – P. 290–299.
3. Avakaw, S. A prospective modular platform of the mask pattern automatic inspection using the die-to-database method / S. Avakaw, A. Korneliuk, A. Tsitko // SPIE. – 2005. – Jun. – V. 5853. – P. 965–976.
4. Kwok-Kit Wong Alfred. Resolution Enhancement Techniques in Optical Lithography / Alfred Kwok-Kit Wong // SPIE PRESS, USA. – 2001. – P. 1–213.
5. Behringer Uwe. Foreword of the 19th European Mask Conference on Mask Technology for Integrated Circuts and Micro-Components. Lectures held at the GMM-Conference. January 13–15, 2003 in Sonthofen / Uwe Behringer. – Germany. – P. 1–2.
6. A complete set of the special process equipment for the defect-free production of reticles. The 23rd European Mask and Lithography Conference EMLC-2007 Janyary 22–25, 2007 / S. Avakaw [et al.]. – Grenoble, France, 2007. – P. 29–30.
Рецензия
Для цитирования:
Аваков С.М. ПРИМЕНЕНИЕ ОБОРУДОВАНИЯ ДЛЯ АВТОМАТИЧЕСКОГО КОНТРОЛЯ ПЛАНАРНЫХ СТРУКТУР В ПРОИЗВОДСТВЕ ОРИГИНАЛОВ ТОПОЛОГИИ ИНТЕГРАЛЬНЫХ СХЕМ НА ФОТОШАБЛОНАХ. НАУКА и ТЕХНИКА. 2007;(6):64-70. https://doi.org/10.21122/2227-1031-2007-0-6-64-70
For citation:
Avakov S.M. APPLICATION OF EQUIPMENT FOR AUTOMATIC CONTROL OF PLANAR STRUCTURES IN MANUFACTURING MASTER MASKS OF INTEGRATED CIRCUITS ON PHOTO-MASKS. Science & Technique. 2007;(6):64-70. (In Russ.) https://doi.org/10.21122/2227-1031-2007-0-6-64-70