MANUFACTURING TECHNOLOGY OF PHOTOGRAPHIC MASKS BASED ON REAL-TIME SIMULATION OF PARAMETRIZED PHOTOLITHOGRAPHY PROCESS
Abstract
The paper presents results of the new developed approach to manufacturing of original topology using photographic masks that allows to perform a real-time estimation of photolithographic significance of the pattern defects on a mask being detected while controlling the correspondence of the photographic masks to the required topology. In this case such operation as projection transfer of an image from the photographic mask to wafer has not been applied. The given approach excludes not only single but topology group defects as well and also optical proximity correction structure defects.
References
1. Kwok, A. Resolution Enhancement Techniques in Optical Lithography / A. Kwok, K. Wong // SPIE PRESS. – USA, 2001. – 213 р.
2. Аваков, С. М. Применение оборудования для автоматического контроля планарных структур в производстве оригиналов топологии интегральных схем на фотошаблонах / С. М. Аваков // Вестник БНТУ. – 2007. – № 6. – C. 64–70.
3. Лазерная литография. Коррекция формы субмикронных элементов / С. М. Аваков [и др.] // Электроника НТБ. – 2009. – № 8. – С. 82–85.
4. Syed, A. Rizvi. Handbook of Photomask Manufacturing Technology / A. Rizvi Syed // Taylor and Francis. – USA, 2005. – 862 р.
5. Аваков, С. М. Методы получения субпиксельного разрешения при автоматическом контроле оригиналов топологии интегральных схем / С. М. Аваков // Вестник БНТУ. – 2008. – № 1. – С. 44–49.
6. Оптико-механические комплексы для бездефектного изготовления фотошаблонов 0,35 мкм и 90 нм / С. М. Аваков [и др.] // Фотоника (приложение к журналу «Электроника НТБ»). – 2007. – № 6. – С. 35–39.
7. Laser mask repaire for advanced technologies / A. Dinsdale [et al.] // VDE/VDI, GMM Fachbericht. – 2006. – № 49. – P. 247–262.
8. Аваков, С. М. Автоматический контроль топологии субмикронных планарных структур / С. М. Аваков. – Минск : ФУАинформ, 2007. – 168 с.
9. Guo, E. Simulation Based Mask Defect Printability Verification and Disposition, Part II / E. Guo, I. Shi, B. Gao // SPIE. – 2011. – Vol. 8166. – Р. 21–28.
Review
For citations:
Rusetski V.A. MANUFACTURING TECHNOLOGY OF PHOTOGRAPHIC MASKS BASED ON REAL-TIME SIMULATION OF PARAMETRIZED PHOTOLITHOGRAPHY PROCESS. Science & Technique. 2013;(4):43-48. (In Russ.)
Views:
1663
Email this article 