Для цитирования:

Русецкий В.А. ТЕХНОЛОГИЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТОШАБЛОНОВ, ОСНОВАННАЯ НА ОПЕРАТИВНОМ МОДЕЛИРОВАНИИ ПАРАМЕТРИЗОВАННЫХ ПРОЦЕССОВ ФОТОЛИТОГРАФИИ. НАУКА и ТЕХНИКА. 2013;(4):43-48.

For citation:

Rusetski V.A. MANUFACTURING TECHNOLOGY OF PHOTOGRAPHIC MASKS BASED ON REAL-TIME SIMULATION OF PARAMETRIZED PHOTOLITHOGRAPHY PROCESS. Science & Technique. 2013;(4):43-48. (In Russ.)