Preview
Полноэкранный режим

Для цитирования:


Русецкий В.А. ТЕХНОЛОГИЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТОШАБЛОНОВ, ОСНОВАННАЯ НА ОПЕРАТИВНОМ МОДЕЛИРОВАНИИ ПАРАМЕТРИЗОВАННЫХ ПРОЦЕССОВ ФОТОЛИТОГРАФИИ. НАУКА и ТЕХНИКА. 2013;(4):43-48.

For citation:


Rusetski V.A. MANUFACTURING TECHNOLOGY OF PHOTOGRAPHIC MASKS BASED ON REAL-TIME SIMULATION OF PARAMETRIZED PHOTOLITHOGRAPHY PROCESS. Science & Technique. 2013;(4):43-48. (In Russ.)



Creative Commons License
Контент доступен под лицензией Creative Commons Attribution 4.0 License.


ISSN 2227-1031 (Print)
ISSN 2414-0392 (Online)