АНАЛИЗ МЕТОДОВ МОДЕЛИРОВАНИЯ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ В МИКРОЭЛЕКТРОНИКЕ
About the Authors
В. Сычик
Белорусский национальный технический университет
Беларусь
Беларусь
А. Горожданов
Белорусский национальный технический университет
Беларусь
Беларусь
Н. Уласюк
Белорусский национальный технический университет
Беларусь
Беларусь
С. Владимирова
Белорусский национальный технический университет
Беларусь
Беларусь
References
1. Pełka J., Muller N. Simulation of Dry Etch Processes by COMPOSOTE // IEEE Trans. - 1988. - Vol. CAD-7, № 2. -P. 154-159.
2. Salshurg K. A., Nansen N. N. Fedss-Finite-Element Diffusion-Simulation System // IEEE Trans. - 1983. - Vol. ED-30, №9.-P. 1004-1011.
3. Nobler G., Selberherr S. Two-Demensional Modeling of Ion Implantation Induced Point Defects // IEEE Trans. -1988. - Vol. CAD-7, № 2. - P. 174-180.
Review
For citations:
, , , . Science & Technique. 2002;(5):50-54. (In Russ.)
Views:
1413
JATS XML
Email this article 