АНАЛИЗ МЕТОДОВ МОДЕЛИРОВАНИЯ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ В МИКРОЭЛЕКТРОНИКЕ
About the Authors
В. Сычик
Белорусский национальный технический университет
Belarus
Belarus
А. Горожданов
Белорусский национальный технический университет
Belarus
Belarus
Н. Уласюк
Белорусский национальный технический университет
Belarus
Belarus
С. Владимирова
Белорусский национальный технический университет
Belarus
Belarus
References
1. Pełka J., Muller N. Simulation of Dry Etch Processes by COMPOSOTE // IEEE Trans. - 1988. - Vol. CAD-7, № 2. -P. 154-159.
2. Salshurg K. A., Nansen N. N. Fedss-Finite-Element Diffusion-Simulation System // IEEE Trans. - 1983. - Vol. ED-30, №9.-P. 1004-1011.
3. Nobler G., Selberherr S. Two-Demensional Modeling of Ion Implantation Induced Point Defects // IEEE Trans. -1988. - Vol. CAD-7, № 2. - P. 174-180.
Review
For citations:
, , , . Science & Technique. 2002;(5):50-54. (In Russ.)
Views:
1326
Email this article 