satНАУКА и ТЕХНИКАScience & Technique2227-10312414-0392Belarusian National Technical Universitysat-1641Research ArticleМЕТАЛЛУРГИЯ. МЕТАЛЛООБРАБОТКА. МАШИНОСТРОЕНИЕMETALLURGY. МЕТАL WORKING. MECHANICAL ENGINEERINGВлияние режимов напыления на свойства аморфных углеродных покрытийEffect of Spraying Regimes on Properties of Amorphous Carbon CoatingsКовалевскийВ. Н.KovalevskyV. N.

Доктор технических наук

sat@bntu.byФигуринБ. Л.FigurynB. L.

Кандидат технических наук

sat@bntu.byФигуринК. Б.FigurynK. B.sat@bntu.byБелорусский национальный технический университетБеларусьBelarusian National Technical UniversityBelarus200322102003052224Copyright © Ковалевский В.Н., Фигурин Б.Л., Фигурин К.Б., 20032003Ковалевский В.Н., Фигурин Б.Л., Фигурин К.Б.Kovalevsky V.N., Figuryn B.L., Figuryn K.B.Данная работа распространяется под лицензией Creative Commons Attribution 4.0.This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 License.https://sat.bntu.by/jour/article/view/1641

Изучено влияние энергии конденсации эмиссируемого потока атомарного углерода, создаваемого магнетронным распылением, на свойства аморфных углеродных покрытий. При увеличении тока разряда с 0,5 до 2,5 А повышается плотность покрытия с 2,3 до 3,2 г/см3. Финишная обработка покрытий в тлеющем разряде (U = 1250 В; /= 0,15 А; т = 15 мин) обеспечивает увеличение твердости на 40 %. Электрическое сопротивление покрытия возрастает при увеличении расстояния между распыляемым катодом и подложкой.

The paper investigates the effect of condensation energy of emissioned flux of monatomic carbon, created by magnetronic dispersion, on properties of amorphous carbon coatings. While increasing discharge current from 0,5 up to 2,5 A coating density is increased from 2,3 up to 3,2 g/cm3. Finishing treatment of coatings in glow discharge (U = 1250 V; / = 0,15 A; t = 15 min) ensures hardness increase by 40 %. Electrical resistance of a coating is going up while increasing distance between the sprayed cathode and substrate.

ReferencesФигурин Б. Л., Вершина А. К. Осаждение углеродных пленок в условиях низкоэнергетичных потоков частиц // Порошковая металлургия: Респуб. межведомств, сб. науч. тр. - Мн.: Вышэйш. шк., 1995. - Вып. 18. - С 118-120.Фигурин Б. Л., Вершина А. К. Осаждение углеродных пленок в условиях низкоэнергетичных потоков частиц // Порошковая металлургия: Респуб. межведомств, сб. науч. тр. - Мн.: Вышэйш. шк., 1995. - Вып. 18. - С 118-120.Фигурин К. Б., Фигурин Б. Л., Ковалевский В. Н. Стереологические особенности конденсируемого потока при магнетронном распылении // Вестник БГГІА. - № 3. - Вып. 3. - С. 39-42.Фигурин К. Б., Фигурин Б. Л., Ковалевский В. Н. Стереологические особенности конденсируемого потока при магнетронном распылении // Вестник БГГІА. - № 3. - Вып. 3. - С. 39-42.Hsiao Chti Tsai, Bogy D. В. Characterization of diamond-like films and their application as overcoats on thinfilm media for magnetic recording // J. Vac. Sci. Technol. 1987.-Vol. 5, №6.-P.3287-3312.Hsiao Chti Tsai, Bogy D. В. Characterization of diamond-like films and their application as overcoats on thinfilm media for magnetic recording // J. Vac. Sci. Technol. 1987.-Vol. 5, №6.-P.3287-3312.Ковалевский В. H., Фигурин Б. Л., Фигурин К. Б. Исследование эмиссионных процессов в плазме тлеющего разряда и их адаптация к магнетронным распылительным системам // Металлургия: Респуб. межвед. сб. науч. тр. - Мн.: Вышэйш. шк., 2002. - Вып. 26. - С. 87-91.Ковалевский В. H., Фигурин Б. Л., Фигурин К. Б. Исследование эмиссионных процессов в плазме тлеющего разряда и их адаптация к магнетронным распылительным системам // Металлургия: Респуб. межвед. сб. науч. тр. - Мн.: Вышэйш. шк., 2002. - Вып. 26. - С. 87-91.

The authors declare that there are no conflicts of interest present.