ПОЛУЧЕНИЕ СЛОИСТЫХ НАНОПОКРЫТИЙ НА АЛМАЗНЫХ ПОРОШКАХ В ПЛАНАРНОМ МАГНЕТРОНЕ
Аннотация
Представлены результаты исследований по оценке влияния технологических параметров распыления композиционных катодов в планарной магнетронной распылительной системе на структурообразование и свойства слоистых нанопокрытий (Si + C) алмазных микропорошков. В нанослое (до 20 нм) из смеси атомов или кластеров Si + C с аморфной структурой, обработанной плазмой тлеющего разряда, протекала реакция образования α-SiC. Слоистое покрытие получали последующим нанесением на этот слой Si + C заданной толщины (до 300 нм) и Аl (10 нм), а также наружного слоя из пиролитического углерода. Покрытие обеспечивало защиту алмаза от графитации при нагреве и формирование карбидокремниевой матрицы. Композит «алмаз – карбид кремния», полученный на основе алмазных порошков со слоистым покрытием методом пропитки жидким кремнием и реакционного спекания, обладает повышенными свойствами.
Об авторах
В. Н. КовалевскийДоктор технических наук, профессор
И. В. Фомихина
А. В. Ковалевская
С. В. Григорьев
А. Е. Жук
Список литературы
1. Гордеев, С. К. Композиты алмаз – карбид кремния, новые сверхтвердые конструкционные материалы для машиностроения / С. К. Гордеев // Вопросы материаловедения. – 2001. – № 3. – С. 31–40.
2. Особенности получения композиционных материалов алмаз – карбид кремния – кремний при низких давлениях / С. К. Гордеев [и др.] // Неорганические материалы. – 2001. – Т. 37, № 6. – С. 691–696.
3. Структурообразование карбидокремниевой матрицы в композиции алмаз – карбид кремния / В. Н. Ковалевский [и др.] // Огнеупоры и техническая керамика. – 2005. – № 5. – С. 8–14.
4. Моделирование и расчет параметров электрического разряда в планарном магнетроне / С. Г. Клопов [и др.] // Изв. РАН. Серия Физическая. – 2006. – Т. 70, № 8. – С. 1204–1209.
5. Устройство для получения металлических покрытий в вакууме : а. с. 1632089 СССР, МКИ С23С14/38 / Б. Л. Фигурин, В. И. Рулинский, И. М. Григорович. – № 4704940 ; заявл. 14.06.09 ; опубл. 28.02.90 // Открытия. Изобретения. – 1990. – № 8. – 198 с.
6. Плешивцнев, Н. В. Катодное распыление / Н. В. Плешивцнев. – М.: Атомиздат, 1968. – 343 с.
7. Гусев, Г. А. Тлеющий разряд в технологии ЭВП / Г. А. Гусев. – М. : ЦНИИэлектроники, 1980. – 38 с.
Рецензия
Для цитирования:
Ковалевский В.Н., Фомихина И.В., Ковалевская А.В., Григорьев С.В., Жук А.Е. ПОЛУЧЕНИЕ СЛОИСТЫХ НАНОПОКРЫТИЙ НА АЛМАЗНЫХ ПОРОШКАХ В ПЛАНАРНОМ МАГНЕТРОНЕ. НАУКА и ТЕХНИКА. 2008;(5):40-46.
For citation:
Kovalevsky V.N., Fomikhina I.V., Kovalevskaya A.V., Grigoriev S.V., Zhuk A.E. OBTAINING LAYER NANO-COATINGS ON DIAMOND POWDERS IN PLANAR MAGNETRON. Science & Technique. 2008;(5):40-46. (In Russ.)